Mercado de triclorosilano aumentó fuertemente

El triclorosilano (TCS o SiHCl3) se genera de la siguiente manera dentro de un reactor presurizado de alta temperatura: Si 3 HCl SiHCl3 H2 Si 3 SiCl4 2 H2 4 SiHCl3 . El TCS luego se envía al reactor CVD (Deposición química de vapor). En el proceso de Siemens, las varillas u horquillas "de arranque" de silicio de alta pureza se exponen al triclorosilano a 1150 C en el reactor CVD. El gas triclorosilano se descompone y deposita silicio puro adicional en las varillas del reactor CVD, agrandándolas según reacciones químicas como: 2 SiHCl3 H2 Si SiCl4 2 HCl (a 1100 C / 6 barg) El silicio producido en esta reacción se denomina silicio policristalino ( PC). Luego, el SiCl4 HCl se "recicla" y se devuelve a la planta de TCS a través de la conversión de SiCl4 (en el convertidor): SiCl4 H2 catalizador HCl SiHCl3.

En todas las reacciones anteriores, notamos el uso o generación de HCl y H2. Se necesita gas HCl anhidro de reposición en el reactor TCS debido a la conversión y el reciclaje incompletos del SiCl4 y el TCS en el paso de reciclaje, lo que significa que parte del cloro se genera como un producto de desecho en el proceso general y se envía a otro lugar. El AHCl debe estar seco y de alta pureza, pero puede contener H2, que también es un subproducto reciclado.