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Tecnología de hidrogenación a baja temperatura con tetracloruro de silicio
La tecnología de hidrogenación a baja temperatura fue una tecnología para hidrogenar tetracloruro de silicio con polvo de silicio y catalizador a una temperatura de reacción más baja. Usando un catalizador a base de cobre o hierro, a una temperatura de 400 ~ 800 ℃, presión de 2 ~ 4MPa, agregando polvo de silicio e hidrógeno al lecho fluidizado y reaccionando con tetracloruro de silicio para producir triclorosilano . El principio de reacción básico de la hidrogenación a baja temperatura es el siguiente:
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)=4SiHCl3(g)
La tecnología de hidrogenación de cloro consiste en agregar HCl sobre la base de la tecnología de hidrogenación a baja temperatura para reducir aún más la temperatura de reacción y aumentar el rendimiento de triclorosilano . El principio de la reacción de hidrogenación del cloro es el siguiente: 2SiCl4(g)+H2(g)+HCl(g)+Si(s)=3SiHCl3(g) . El plasma de hidrógeno se genera mediante la descarga de hidrógeno, que pasa al reactor para reaccionar con gas de tetracloruro de silicio. Dado que el hidrógeno se disocia en átomos de hidrógeno, la reactividad aumenta considerablemente y puede reaccionar fácilmente con tetracloruro de silicio para formar triclorosilano . La hidrogenación catalítica es una tecnología para producir triclorosilano al pasar una mezcla de tetracloruro de silicio e hidrógeno a través de un tamiz molecular cargado con un catalizador. El principio de reacción es el siguiente: SiCl4(g)+H2(g)SiHCl3(g)+HCl(g) .
